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       我們將在下面為大家仔細說一下關于直讀光譜儀內部氬氣的重要作用。

       氬氣的流量和壓力決定Ar氣對放電表面的沖擊力，必須適當。若沖擊能力低，即不足以將試樣激發過程中產生的氧和它形成氧化物沖掉，則這些氧化物必定凝集在樣品表面及電極上，抑制試樣的繼續蒸發，這種現象靠中心區愈嚴重。只有當氬氣的沖擊能力足以洗除氧和電極上的凝集物，同時又不至于使火花產生跳動時，才是最佳狀態。

       氬氣不純，含有過量氧含量，凝集在電極上的氧化物多，譜線強度降低，使氬火花放電不穩定。水蒸汽和C02一樣，在高溫下可能分解出氧氣。因此水蒸汽和C02均不允許含量過大。碳過多，對含碳量較少的試樣的分析精度有直接影響。

       為了提高氬火花的穩定性，必須對氬氣進行凈化處理。可以在供氬管道上加上一個盛分子篩的容器，用以吸附氬氣中的水分及復雜氣體，使氬氣干燥和凈化。分子篩吸附的物質可以用加熱的辦法去除。去除吸附物后的分子篩又恢復了吸附能力，還可以重復循環使用。也可以用條狀的氫氧化鉀去掉氬氣中的二氧化碳，也可以用鎂爐（在管道容器中裝入金屬鎂屑），爐子溫度400-600C，氬氣通過鎂爐后可以除去氧。經過凈化裝置處理后的氬氣，就能滿足分析要求了。

氬氣減壓閥

       為了避免空氣對氬氣管道的污染而降低氬氣純度，因此，平時不做分析時，常規光譜儀氬氣管道中也保持0.5-1升/分鐘的氬氣流量，稱之謂靜態氬沖洗火花室。因此操作者要注意找一塊樣品始終蓋住極板孔，進行分析需換磨樣品時，要求操作迅速，以免盡量減少空氣進入火花室。

       氬氣系統由氬氣控制電路、電磁閥，氣流控制閥等組成，氣流量的分配根據激發過程的需要，由程序設定，各閥門己由制造廠設定，用戶不需要單獨調整，只需提供0.3MPa的氣源即可。

       氬氣進入火花室有一條通道，從聚光鏡前面下方進入火花室，這樣就比較徹底地沖凈光線通過處空間的空氣，又可以阻止激發時產生的粉塵對聚光鏡的污染。

       氬氣流量分配為：①惰性流量（待機狀態）為0.5升/分，此時電磁閥門關閉，氬氣經過固定氣流控制閥保持其恒定值。OBLF公司的光譜儀在常規分析狀態下，靜態氬流量為零。②大流量沖洗，目的是沖擊更換樣品時帶進的空氣。此時電磁閥全開，保持流量為5-6升/分。③激發狀態。中間路電磁閥關閉，另一路與常流量合成3-5升/分流量，維持正常激發。當激發停止，兩閥關閉，又進入待機狀態。